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荷兰asml的光刻机之所以被称为顶级，背后绕不开一个叫林本坚的人，他可是背后的大功臣。现在大家说起芯片就会想到光刻机，而说到光刻机就得提全球光刻机巨头，来自荷兰的asml。
虽然这个公司在荷兰，但是公司内部有一个亚洲人，就是开头提到的林本坚，这个人不夸张地说，可以带动整个国际半导体制造行业的研发方向，尤其是在光刻机这种产品的研发上面，林本坚颇有建树。
在2000年左右的时候，全球的芯片制程已经萎缩到了65纳米，因为受到摩尔定律的影响，整个芯片行业陷入了技术瓶颈。当时一筹莫展的业内人士都把希望寄托在了以空气为介质的157纳米精度的干式光刻技术上，想着在这个方向上突破一下。
但是全球的光刻机制造领域的头部企业纷纷投入到了干式光刻技术的突破上，陆陆续续地投入了数十亿美元的研发资金，但是一直没有取得什么进展。
就是在这种全行业遭受技术瓶颈期的关键时刻，当时在台积电就职的林本坚提出了要利用水来做介质的浸润式光刻机。
相比当时主流的干式光刻技术，林本坚提出的新技术不仅造价低，操作简单，而且芯片的解析度也比同行路的干式光刻高出两倍左右。 | 
发表于 2022-11-27 18:00:08
发表于 2022-11-27 18:14:56
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